Struttura e composizione della macchina per rivestimento sotto vuoto

Jun 04, 2025

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1. Struttura di base della macchina per rivestimento sotto vuoto
La macchina per rivestimento a vuoto è un dispositivo che deposita il film sottile sulla superficie del substrato con metodi fisici o chimici in ambiente a vuoto. La sua struttura centrale include le seguenti parti:

1. Sistema a vuoto: è composto da pompa meccanica, pompa molecolare, pompa di diffusione, ecc., Che viene utilizzata per pompare la camera di rivestimento in un ambiente a vuoto elevato di 10⁻³ ~ 10⁻⁶ Pa (fare riferimento a "Manuale della tecnologia del rivestimento a vuoto"). Ad esempio, la pompa meccanica può ridurre la pressione a 1 ~ 10 Pa e la pompa molecolare può ridurla ulteriormente a 10⁻⁴ Pa.

2. Camera di rivestimento: il corpo principale è una cavità in acciaio inossidabile, che è resistente alla corrosione e ha una forte tenuta. La dimensione varia da 0,5 m³ per i piccoli laboratori a 5 m³ per il grado industriale (come il modello ARL-300 di Ulvac).

3. Fonte di evaporazione: selezionare il riscaldamento della resistenza, il fascio di elettroni o la fonte di sputtering magnetron in base ai requisiti di processo. Ad esempio, la potenza della fonte di evaporazione del fascio di elettroni può raggiungere 10 kW e la velocità di evaporazione è di circa 1 ~ 5 nm/s.

2. Differenze nella composizione di diversi tipi di macchine per rivestimento
1. Apparecchiatura di deposizione di vapore fisico (PVD):

- Le macchine per rivestimento di sputtering magnetron devono essere dotate di materiali target (come bersagli di titanio, target di alluminio) e sistemi di campo magnetico e la pressione del gas di lavoro è generalmente 0,1 ~ 10 pa.

- Le macchine per rivestimento a ioni ad arco aggiungono fonti di arco, la corrente può raggiungere 100 ~ 200 A e l'adesione del film è più forte.

2. Equipaggiamento di deposizione di vapore chimico (CVD):

- È necessario introdurre gas reattivi (come SIH₄, CH₄) e un sistema di controllo del flusso di gas è equipaggiato, con una precisione di ± 1 SCCM (millilitri standard/minuto).

3. Sistemi ausiliari e parametri tecnici chiave
1. Sistema di controllo: il computer industriale o il computer industriale viene utilizzato per monitorare il vuoto, la temperatura (precisione di ± 1 grado) e lo spessore del film (misurato con metodo di oscillazione cristallina al quarzo, accuratezza ± 0,1 nm) in tempo reale.

2. Sistema di raffreddamento: la portata del design della conduttura di raffreddamento dell'acqua è generalmente 20 ~ 50 L/min per garantire la stabilità di funzionamento a lungo termine dell'attrezzatura.

IV. Scenari di applicazione e raccomandazioni di selezione
1. Rivestimento ottico: richiede un'elevata uniformità (deviazione di spessore ± 1%) e deve selezionare una sorgente di evaporazione del fascio di elettroni multi-clucibile.

2. Rivestimento degli strumenti: si concentra sulla durezza (come il rivestimento di stagno può raggiungere 2000 HV) e si preferisce l'attrezzatura per la placcatura a ioni.

Attraverso l'analisi di cui sopra, gli utenti possono scegliere il tipo e la configurazione della macchina per rivestimento corrispondenti in base alle esigenze effettive (come prestazioni del film, efficienza di produzione).

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