Principio operativo
La macchina per rivestimento sottovuoto a sputtering Magnetron è una tecnologia di deposizione fisica da vapore (PVD) ampiamente utilizzata. Il suo obiettivo è utilizzare il campo magnetico per limitare il movimento degli elettroni, migliorando significativamente l'efficienza dello sputtering e la qualità della pellicola.
La sua caratteristica principale è l'uso di campi magnetici per vincolare la traiettoria del movimento degli elettroni, migliorando significativamente l'efficienza dello sputtering e il tasso di deposizione.
Caratteristiche dell'attrezzatura
Sistema di vuoto-a camera singola indipendente
Presenta una camera in acciaio inossidabile-prodotta su misura con saldature lucide e un eccellente controllo generale della velocità di perdita. Le dimensioni della camera possono essere personalizzate in base a specifiche personalizzate.
Modulo di pre-trattamento della sorgente ionica
Utilizza la pulizia ionica del plasma per bombardare e attivare la superficie del pezzo prima del rivestimento, migliorando significativamente l'adesione della pellicola. Presenta un processo opzionale a ioni a bassa temperatura-che consente il trattamento di substrati-sensibili al calore-come plastica e acrilici-senza causare la deformazione del pezzo.
Sistema di controllo uomo-macchina completamente automatizzato
Dispone di un quadro elettrico autonomo e di un funzionamento tramite touchscreen, l'intero processo viene eseguito automaticamente, con la possibilità di memorizzare più ricette di rivestimento.
Giradischi planetario a camera-
Gli impianti del pezzo orbitano con la tavola rotante, garantendo uno spessore uniforme della pellicola e una qualità di rivestimento costante; gli impianti sono intercambiabili per accogliere prodotti diversi.
Applicazioni
Rivestimenti decorativi
Hardware per il bagno, montature per occhiali, custodie per orologi, montature intermedie per telefoni cellulari-, apparecchi di illuminazione, oggetti di artigianato, teste di mazze da golf, ecc.; le finiture includono oro titanio, nero canna di fucile, cromo e rivestimenti decorativi colorati.
Rivestimenti funzionali
Rivestimenti in vetro anti-riflettente/riflettente, rivestimenti ceramici, rivestimenti per stampi resistenti all'usura-, rivestimenti schermanti EMI, pellicole sottili per sensori.
Substrati idonei
Acciaio inossidabile, rame e alluminio, vetro, ceramica, plastica ABS/PC, ecc.




















Il campo magnetico confina gli elettroni
Alto tasso di ionizzazione, tasso di deposizione veloce, alta efficienza produttiva
Alto tasso di sputtering
Deposizione a bassa temperatura
Alta qualità della pellicola:
Forte adesione, compattezza, buona controllabilità della composizione, buona uniformità
La macchina per rivestimento sotto vuoto con magnetron sputtering raggiunge un'elevata velocità di ionizzazione, un'elevata velocità di sputtering e una deposizione a bassa temperatura in virtù della sua caratteristica principale di confinare gli elettroni nel campo magnetico.
Ciò comporta vantaggi significativi come elevata efficienza di deposizione, ampio campo di applicazione dei substrati (in particolare substrati con scarsa resistenza al calore), eccellente qualità del film (forte adesione, densità, composizione controllabile, buona uniformità) e forte flessibilità del processo.
Questi vantaggi la rendono una delle tecnologie PVD preferite o tradizionali in molti campi quali rivestimenti ottici, microelettronica/semiconduttori, celle solari, display a schermo piatto, rivestimenti duri per utensili, rivestimenti decorativi, rivestimenti resistenti all'usura e alla corrosione- e pellicole funzionali.
Specifica:
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Macchina per rivestimento sottovuoto con sputtering magnetron |
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Modello |
CJ-600 |
CJ-800 |
CJ-1000 |
CJ-1200 |
CJ-1400 |
CJ-1500 |
CJ-1600 |
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Dimensioni della camera |
Φ600×800MM |
Φ800×1000MM |
Φ1000×1200MM |
Φ1200×1400MM |
Φ1400×1600MM |
Φ1500×1500MM |
Φ1600×1800MM |
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Unità di vuoto |
KT400 Gruppo pompa a diffusione |
KT500 Gruppo pompa a diffusione |
KT800 Gruppo pompa a diffusione |
KT630 Gruppo pompa a diffusione |
Gruppo pompa a diffusione doppia KT630 |
Gruppo pompa a diffusione doppia KT630 |
Gruppo pompa a diffusione doppia KT630 |
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Sistema di rivestimento |
Alimentatore CC o a media frequenza, rivestimento dell'alimentatore speciale con ioni ausiliari |
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Sistema di inflazione |
Misuratore di portata massica |
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Metodo di controllo |
Manuale o completamente automatico |
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Vuoto definitivo |
5X10-3Pa |
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Osservazione |
I parametri dell'attrezzatura di cui sopra sono solo di riferimento e sono progettati e personalizzati in base alle effettive esigenze di processo dei clienti. |
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