La nuova linea di macchine per rivestimento continuo per piastrelle in ceramica, vetro e metallo è un sistema di produzione altamente specializzato, utilizzato principalmente per depositare uno o più strati di film funzionali estremamente sottili sulla superficie dei substrati (come vetro, plastica, metallo, ceramica, wafer semiconduttori, ecc.).
Il suo scopo principale è vaporizzare o ionizzare il materiale di rivestimento attraverso vari metodi fisici in un ambiente ad alto vuoto, quindi condensarlo in una pellicola sulla superficie del substrato.
Applicazioni:
Rivestimento sotto vuoto di rame, argento e altri materiali conduttivi sulla superficie di ceramiche di componenti elettrici e ceramiche di circuiti stampati.
È adatto anche per la deposizione sotto vuoto di vari strati di pellicola metallica sulla superficie di altri pezzi simili a piastre- (vetro, pannelli acrilici, ecc.);



Caratteristiche principali:
Il campo magnetico confina il plasma
Questa è la caratteristica principale dello sputtering del magnetron. Applicando un forte campo magnetico di forma specifica (solitamente a forma di anello o di pista) vicino alla superficie del bersaglio, gli elettroni vengono confinati vicino alla superficie del bersaglio per compiere un movimento a spirale, che aumenta notevolmente la probabilità di collisione e ionizzazione degli elettroni con gli atomi del gas di lavoro (solitamente argon).
Alto tasso di ionizzazione e alto tasso di deposizione
Il confinamento del campo magnetico aumenta significativamente la densità del plasma e la velocità di ionizzazione, rendendo il processo di sputtering più efficiente.
Ciò significa che a una pressione del gas relativamente bassa e a una bassa tensione/potenza di sputtering, è possibile ottenere tassi di sputtering e deposizione molto più elevati rispetto allo sputtering DC convenzionale.
Processo a bassa temperatura
Poiché la maggior parte dell'energia viene utilizzata per ionizzare il gas e spruzzare gli atomi bersaglio, al substrato viene trasferito relativamente poco calore.
Buona qualità della pellicola
Buona densità, forte adesione, elevata purezza e buona uniformità.
Ampia gamma di adattabilità dei materiali
Buona controllabilità del processo
La linea di produzione del rivestimento sputtering magnetron è diventata una delle tecnologie principali per la preparazione di film sottili funzionali (come film ottici, film conduttivi, film duri-resistenti all'usura, film decorativi, film anti-corrosione, film magnetici, film per semiconduttori, ecc.) nell'industria moderna grazie alle sue caratteristiche principali e ai vantaggi come l'elevata velocità di deposizione, il processo a bassa temperatura, l'eccellente qualità del film (compatto, forte adesione), l'ampia adattabilità dei materiali, la buona uniformità e controllabilità. Ha applicazioni estremamente ampie nella microelettronica, display a schermo piatto, celle solari, rivestimenti per utensili, parti automobilistiche, imballaggi, decorazioni, dispositivi ottici e altri campi.
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